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Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器

簡要描述:Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器
與波片相比,旋轉(zhuǎn)器具有固有優(yōu)勢,與繞其自身光軸的旋轉(zhuǎn)無關。它不需要調(diào)整,只需垂直于入射輻射安裝即可。偏振平面旋轉(zhuǎn)器通常用于特定波長。它僅略微取決于環(huán)境溫度。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-17
  • 訪  問  量:746

產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器


Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器

旨在使用由晶體石英制成的圓形雙折射效應將光束偏振平面嚴格旋轉(zhuǎn)到合適的角度。

產(chǎn)品介紹

Ø旨在通過圓形雙折射效應將光束偏振平面嚴格旋轉(zhuǎn)到合適的角度

Ø由晶體石英制成

與波片相比,旋轉(zhuǎn)器具有固有優(yōu)勢,與繞其自身光軸的旋轉(zhuǎn)無關。它不需要調(diào)整,只需垂直于入射輻射安裝即可。偏振平面旋轉(zhuǎn)器通常用于特定波長。它僅略微取決于環(huán)境溫度。

產(chǎn)品型號

型號

中心波長

偏振平面的旋轉(zhuǎn)角度

AR鍍膜范圍

470-4044

400 nm

45°

380-420 nm

470-4049

400 nm

90°

380-420 nm

470-4254

257 nm

45°

250-265 nm

470-4259

257 nm

90°

250-265 nm

470-4264

266 nm

45°

257-275 nm

470-4269

266 nm

90°

257-275 nm

470-4344

343 nm

45°

333-353 nm

470-4349

343 nm

90°

333-353 nm

470-4514

515 nm

45°

500-530 nm

470-4519

515 nm

90°

500-530 nm

470-4784

780 nm

45°

740-820 nm

470-4789

780 nm

90°

740-820 nm

470-4804

800 nm

45°

760-840 nm

470-4809

800 nm

90°

760-840 nm

470-4904

1030 nm

45°

1000-1060 nm

470-4909

1030 nm

90°

1000-1060 nm

 

材料

單晶石英

光軸

垂直于旋轉(zhuǎn)器的面S1,S2

通光孔徑

Ø17mm

環(huán)安裝外徑,D

25.4mm+ 0.0 / -0.2mm

表面質(zhì)量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

波前畸變

λ/ 10 @ 633nm

平行性

<10弧秒

增透膜

R <0.5%

激光損傷閾值

100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

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