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Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071

簡要描述：Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071
該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設計的光機械適配器，其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機械支架840-0197。

產(chǎn)品品牌：Eksma
廠商性質(zhì)：代理商
更新時間：2024-04-23
訪問量：879

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LAYERTEC非球面光學元件介紹

詳細介紹

品牌	Eksma	價格區(qū)間	面議
組件類別	光學元件	應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071

該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設計的光機械適配器，其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機械支架840-0197。

產(chǎn)品介紹

?將激光束分為兩束手動調(diào)節(jié)的強度比，以68°角分開

?大動態(tài)范圍

?透射光束偏移?0.5毫米

?高光學損傷閾值

?透射光束的衰減范圍：0.5％-95％

?反射光束的衰減范圍：5％-99.5％

該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設計的光機械適配器，其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°偏振片適配器中，該偏振片在反射56°的S偏振光同時透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉(zhuǎn)支架840-0197中。

可以通過旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比，而不會改變其他光束參數(shù)。可以在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振器的入射角調(diào)整±2°，并獲得較大的偏振對比度。

注意：實心基座高度擴展器820-0210和標準桿820-0020-20應單獨訂購。

產(chǎn)品型號

適用于Nd：YAG激光應用

型號	波長	激光損傷閾值
990-0071-355	355 nm	5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz
990-0071-532	532 nm	5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz
990-0071-1064	1064 nm	5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz

飛秒應用

型號	波長	激光損傷閾值
990-0071-257	257 nm	10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-266	266 nm	10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-343	343 nm	10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-400	400 nm	10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-400B	390-410 nm	10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-515	515 nm	10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-515B	505-525 nm	10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-800	800 nm	10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-800B	780-820 nm	10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-1030	1030 nm	10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-1030B	1010-1050 nm	10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

適用于高功率飛秒激光應用

型號	波長	激光損傷閾值
990-0071-257H	257 nm	100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-266H	266 nm	100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-343H	343 nm	100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-400H	400 nm	100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-400HB	390-410 nm	100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-515H	515 nm	100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-515HB	505-525 nm	100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-800H	800 nm	100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-800HB	780-820 nm	100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-1030H	1030 nm	100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs
990-0071-1030HB	1010-1050 nm	100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

適用于Nd：YAG激光應用

通光孔徑	10 mm
損害閾值	5 J/cm2 pulsed at 1064 nm, typical
偏振對比	>1:200

飛秒應用

通光孔徑	10 mm
損害閾值大功率激光應用：	>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical >100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
時間分散	t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses
偏振對比	>1:200

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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