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CVD鑽石光學(xué)元件

簡要描述:CVD鑽石光學(xué)元件
多晶CVD金剛石由于其出色的性能,長期以來一直被認(rèn)為是各種應(yīng)用的終/極材料。它優(yōu)良的硬度是精密工具和加工工藝的優(yōu)勢。金剛石的高導(dǎo)熱性使它在熱管理應(yīng)用中非常有用。其廣泛的光學(xué)傳輸范圍使金剛石窗口能夠進(jìn)入半導(dǎo)體制造的尖/端光刻系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品品牌:其他品牌
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2022-11-25
  • 訪  問  量:862

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品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
組件類別其他應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

CVD鑽石光學(xué)元件

CVD鑽石光學(xué)元件

多晶CVD金剛石由于其出色的性能,長期以來一直被認(rèn)為是各種應(yīng)用的終/極材料。它優(yōu)良的硬度是精密工具和加工工藝的優(yōu)勢。金剛石的高導(dǎo)熱性使它在熱管理應(yīng)用中非常有用。其廣泛的光學(xué)傳輸范圍使金剛石窗口能夠進(jìn)入半導(dǎo)體制造的尖/端光刻系統(tǒng)。此外,它在微波波段的透明度為微波工程的應(yīng)用開發(fā)開辟了一個(gè)完整的世界。在其較純凈的形式下,多晶CVD鉆石沒有電子陷阱,使其成為高能應(yīng)用中使用的超敏感核探測器的理想材料。

通過等離子體化學(xué)氣相沉積法生長,II-VI公司的鉆石產(chǎn)品經(jīng)過優(yōu)化,充分利用了使鉆石成為超級材料的品質(zhì)。II-VI Incorporated將晶體生長與較*的光學(xué)級加工相結(jié)合,通過整形和拋光、質(zhì)量保證和涂層,其廣泛的CVD金剛石產(chǎn)品組合包括高透明度的微波窗和靈敏度最高的金剛石核探測器。II-VI Incorporated對金剛石材料研究和開發(fā)的強(qiáng)烈承諾使我們能夠與希望利用多晶CVD金剛石的驚人品質(zhì)的所有市場客戶密切合作。

透明窗和光學(xué)器件

在II-VI ,光學(xué)金剛石正在大批量生產(chǎn)。我們一直在生產(chǎn)具有優(yōu)質(zhì)光學(xué)質(zhì)量的材料(低1微米散射,低10.6微米體吸收,低632.8納米的雙折射),其截面尺寸和厚度范圍廣泛。

通過利用制造和涂層方面的核心技術(shù),II-VI ,成為極紫外光鉆石窗口的優(yōu)良品牌,這對下一代半導(dǎo)體制造的*光刻工具至關(guān)重要。

熱管理解決方案

通過調(diào)整我們的生長過程,II-VI ,已經(jīng)開發(fā)出為各種高性能熱管理應(yīng)用生成多晶CVD金剛石的能力。熱導(dǎo)率的規(guī)格范圍高達(dá)2200 W/m-K以上。利用我們優(yōu)良的制造設(shè)施,我們能夠根據(jù)客戶的規(guī)格制造出直徑大至145mm、厚度達(dá)2mm的超平和超光滑的部件,以確保與設(shè)備的優(yōu)良的熱接觸。

微波透明光學(xué)器件

II-VI 制造高質(zhì)量的鉆石光學(xué)產(chǎn)品,在微波區(qū)域是透明的。結(jié)合我們內(nèi)部對直徑大至145mm的窗口和透鏡進(jìn)行拋光和鍍膜的能力,II-VI 已經(jīng)準(zhǔn)備好滿足核聚變研究等領(lǐng)域?qū)ξ⒉ㄍ该鞑牧系男枨蟆?/p>

加工解決方案

II-VI 已經(jīng)開發(fā)出一種金剛石薄膜,在加工較堅(jiān)硬的材料時(shí),擁有堪稱典/范的硬度和磨損率。通過將我們較*的拋光和制造技術(shù)與我們內(nèi)部的激光制造設(shè)施相結(jié)合,我們能夠以有競爭力的價(jià)格生產(chǎn)出優(yōu)良的產(chǎn)品。

核檢測器解決方案

使用精細(xì)調(diào)整的超高純生長工藝,II-VI ,生長出的多晶金剛石薄膜表現(xiàn)出優(yōu)良的電荷收集距離。對于500微米厚的成品部件,可以獲得一致的結(jié)果。

主要的CVD鉆石應(yīng)用

CVD金剛石的應(yīng)用包括多光譜激光光學(xué)、介電窗、散熱片等。

金剛石是各種應(yīng)用的終/極材料,因?yàn)樗哂谐錾男阅?,包括極/強(qiáng)的硬度和強(qiáng)度、高導(dǎo)熱性、低熱膨脹、出色的介電性能、抗化學(xué)侵蝕以及在寬光譜范圍內(nèi)的光學(xué)傳輸。

我們在較*的生長和制造設(shè)施中生產(chǎn)高質(zhì)量的多晶CVD金剛石基片。材料采用等離子體輔助化學(xué)氣相沉積工藝生長,用激光切割成所需的尺寸,并按照客戶的要求對表面進(jìn)行加工。我們還提供其他特殊的制造服務(wù),如邊緣研磨、激光雕刻以及光學(xué)組件的設(shè)計(jì)和制造。II-VI ,專門為金剛石基片提供*的光學(xué)涂層,包括單波長或多光譜應(yīng)用的AR、HR和TFP。

II-VI 所提供的一些產(chǎn)品包括。

用于工業(yè)激光應(yīng)用的高功率CO2激光窗口(10微米范圍)。

用于工業(yè)或研究應(yīng)用的高功率多光譜激光窗口。

用于聚變和定向能應(yīng)用的高功率mm波窗口

用于極/端熱管理應(yīng)用的熱擴(kuò)散器

用于需要超硬材料的機(jī)械應(yīng)用的產(chǎn)品。

主要的CVD鉆石應(yīng)用

CO2激光窗(10.6µm)

- 高功率工業(yè)激光器

高功率微波窗

- 陀螺儀、聚變反應(yīng)堆

- 雷達(dá)、定向能應(yīng)用

熱管理

- 散熱器



生長方法等離子化學(xué)氣相沉積


物理特性


結(jié)構(gòu)立方,多晶
晶粒大小取決于厚度和工藝(0.05 - 1mm)
等級光學(xué)、熱、微波、探測器、機(jī)械、客戶定制
厚度*最大 2 mm


制造能力*


尺寸激光切割客戶規(guī)格,最大直徑145mm
尺寸公差+/- 50µm
拋光縱橫比高達(dá) 50:1 的直徑高達(dá) 145 mm
功率<0.5_fr/cm
不規(guī)則度<0.5_fr/cm
透射波前<0.5_fr/cm
表面粗糙度<15nm


熱性能(熱級材料


導(dǎo)熱系數(shù)室溫下高達(dá) >2,200 (W/mK)
熱膨脹系數(shù)1 (10-6 K-1)
比熱 (25oC)0.536 (J g-1 K-1)


光學(xué)特性(光學(xué)級材料)*


體積吸收@10.6µm <0.07(cm-1)<0.07(cm-1)
體積吸收@1um <1(cm-1)<1(cm-1)
散射@1µm <0.7(cm-1)<0.7(cm-1)


微波級材料


微波損耗角正切(Tan δ)<2e-5


*這代表標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)。 可根據(jù)要求提供產(chǎn)品數(shù)據(jù)表和規(guī)格。


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